主要功能:
具備單色化XPS、微區XPS、Al/Mg雙陽極XPS、平行成像XPS、離子深度刻蝕、離子散射譜ISS、反射電子能量損失譜REELS和定制氣體反應系統準原位X射線能譜分析功能。
主要配置及技術指標:
1. 常規XPS,鑒別樣品表面的元素種類、化學價態以及相對含量。雙陽極XPS,更適合用于不同的特殊過渡金屬元素的研究,如催化領域。
2.微區XPS分析(單色化XPS),用于樣品微區(>20μm)表面成分分析,高能量分辨的化學態分析。
3.深度剖析XPS,結合離子刻蝕技術對樣品(如薄膜等)進行成分深度分布分析。通過角分辨XPS還可以進行非損傷成分深度分布分析。
4.XPS成像,可以對元素或化學態進行表面面分布分析,使一些分析結果更直觀。
5.反射電子能量損失譜REELS技術,可實現氫元素的檢測。
6.離子能量損失譜ISS,可實現樣品表面元素信息的檢測。
7.紫外光電子能譜(UPS),可以獲得樣品價帶譜信息,對導體、半導體的能帶、帶隙等分析提供主要數據。還可以分析樣品逸出功等。
8. 變溫(液氮制冷,加熱)條件下測試。
9. 原位測試。
工作原理
基于光電效應,采用X射線激發被測樣品表面納米尺度內的原子發射光電子,通過系統探測到所發射光電子的動能等信息,進而分析樣品表面的元素種類及化合態的定性和定量分析的一種技術。
主要用途:
可用于研究各種固體材料樣品表面(1-10nm厚度)的元素種類、化學價態以及相對含量。結合離子刻蝕技術還可以獲得元素及化學態深度分布信息;通過成像技術可以獲得元素及化學態的面分布信息;利用微聚焦X射線源或電子束可以獲得微區表面信息。在金屬、玻璃、高分子、半導體、納米材料、生物材料以及催化等領域有廣泛應用。
表面分析
表面化學態分析
縱深分析
二次電子影像